物品：低端光刻机
经验值：100000100000(可升级)
优化点：250.8
第二天，蔡晋睡醒之后，来到小工厂，查看光刻机的时候，数据已经发生了变化。
“系统，升级！”蔡晋毫不犹豫地选择了升级。
唰！
一道微光闪烁！
顿时，这台光刻机就发生了变化。
至少看起来,顺眼了很多。
相关的信息，蔡晋也就了解了。
物品：中低端光刻机
经验值：0500000
优化点：250.8
这台光刻机，一下子从可以生产300nm，一下子提升到了150nm芯片水平。
不过，150nm芯片，依旧属于低端芯片，根本没有任何值得喜悦的。
蔡晋继续让光刻机运行着。
随后，他开始组装生产光刻胶的设备。
芯片发展有一个叫做摩尔定律的说法,每18~24个月，性能就会翻一倍。
而保持摩尔定律生命力的基石之一就是光刻技术，每18~24个月，利用光刻工艺在集成电路板上所能形成最小图案的特征尺寸将缩小30%。
光刻胶，正是光刻工艺的核心材料，它可以与光线发生反应，让芯片材料上出现所需的精密电路图案。
光刻胶的质量和性能，会直接影响到集成电路制造过程中的优良率。
一句话概括就是，光刻出的电路图案越精密，就代表着芯片性能越好。
而中国在半导体光刻胶方面，简直是惨不忍睹，国产市场占有率仅仅1%！
中国每年光刻胶的产量，已经达到了惊人的七万吨。
但这些产量只不过是一些初级产品罢了。
至于中高端产品，全部需要从境外购买，技术完全被境外封锁。
一种年使用量超过十万吨的重要耗材，居然全靠进口，说起来何等心酸。
想想，目前中国曝光机和光刻机数量庞大,就算遭到对手的打击，一时半刻没办法进口这两种机台，国内相关行业也还撑得住。
但是光刻胶不一样，那是每天都要大量消耗的耗材，一旦被断供，整个行业就会没有耗材可用。
投资上千亿建起来的生产线，一旦光刻胶被别人卡脖子，就必